氧化還原技術(shù)是當(dāng)前化工領(lǐng)域一種相對(duì)常見的加工技術(shù)，它是指依托氧化工藝，將某些物質(zhì)材料恢復(fù)至此前的面貌。當(dāng)然，由于這項(xiàng)技藝本身的復(fù)雜性與技術(shù)掌握人士的稀少，使得包括化工從業(yè)者在內(nèi)的諸多人士對(duì)其內(nèi)容不甚了解。為了解決這個(gè)問題，下面就簡(jiǎn)要分析石墨烯氧化還原的技術(shù)特點(diǎn)。

一、雙向拉伸技術(shù)

與常規(guī)的加工成型方法相比，雙向拉伸技術(shù)是工業(yè)上氧化還原的一種新進(jìn)技術(shù)，并且在拉伸過程中材料內(nèi)部的微觀結(jié)構(gòu)與性能都會(huì)發(fā)生顯著變化。一方面，雙向拉伸過程可能會(huì)像單軸拉伸一樣擴(kuò)大納米粒子之間的距離，從而導(dǎo)致導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)的破壞。另一方面，雙向拉伸過程中產(chǎn)生的兩種相互正交的拉伸應(yīng)力和較強(qiáng)的剪切應(yīng)力又可能會(huì)破壞納米填料的團(tuán)聚，從而有利于導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)的形成，達(dá)到石墨烯氧化還原目標(biāo)。

二、正反電極交互作用

石墨烯氧化還原里的電化學(xué)交流阻抗譜圖均由兩部分組成，一部分為半圓弧型的高頻區(qū)，另一部分為斜直線的低頻區(qū)；高頻區(qū)半圓弧曲線描述的是反應(yīng)物在電極表面處發(fā)生氧化還原反應(yīng)時(shí)的反應(yīng)阻抗，圓弧直徑與系統(tǒng)的電荷轉(zhuǎn)移電阻成正比。低頻區(qū)的斜線表示反應(yīng)底物在電極表面擴(kuò)散時(shí)的擴(kuò)散阻抗，影響擴(kuò)散阻抗的主要因素是涂層材料的微觀結(jié)構(gòu)，其斜線的長(zhǎng)度與擴(kuò)散阻抗呈正相關(guān)。

三、技術(shù)門檻相對(duì)較低

氧化還原技術(shù)本身的形態(tài)復(fù)雜多樣，就石墨烯領(lǐng)域而言是其中較為簡(jiǎn)易的一種。由于其技術(shù)門檻相對(duì)較低，故而能夠比較好的被經(jīng)驗(yàn)不足的公司掌握與實(shí)踐。從某種角度而言，這也是其未來得到較大規(guī)模推廣的一個(gè)參考指標(biāo)。

石墨烯氧化還原目前在中國(guó)社會(huì)的應(yīng)用情況處在起步階段，諸多領(lǐng)域的應(yīng)用仍然處在摸索階段，這種情況下如何全面掌握和認(rèn)識(shí)氧化還原技術(shù)的特點(diǎn)，以此引導(dǎo)氧化還原技術(shù)更好地應(yīng)用在社會(huì)的其它行業(yè)領(lǐng)域是一個(gè)頗為值得思考的問題，這也是拓寬其未來前景的主要舉措。